Analytik

Analyse im Nano-Bereich

Analytik

Die neoxid GmbH ist spezialisiert auf die Analyse der Struktur, der Rauigkeit und der Topographie von Oberflächen und Beschichtungen sowie der Zusammensetzung von Materialien, Werkstoffen und Produkten im Bereich von Mikrometern bis Nanometern.
Nutzen Sie maßgeschneiderte Dienstleistungen: von der einfachen Routine bis zur komplexen Analyse - in unserem modernen Labor mit vielfältigen Untersuchungsmethoden und Analyseverfahren, wie zum Beispiel Rasterelektronenmikroskopie (REM) mit angeschlossenen EDX-Spektrometern (EDX) zur Mikrobereichsanalyse oder Rasterkraftmikroskopie (AFM) zur Oberflächenabbildung.

Möchten Sie die Oberflächenstruktur einer Probe untersuchen lassen? Oder ihre Zusammensetzung? Oder haftet Ihre Beschichtung schlecht und Sie möchten herausfinden, warum? 

Wir sind ein innovatives Team aus Physikern, Chemikern und Ingenieuren mit jahrzehntelanger Erfahrung auf dem Gebiet der Oberflächentechnik und Analytik und helfen Ihnen weiter. In Abstimmung mit Ihnen erstellen wir einen individuellen Arbeitsablauf für die Durchführung der verschiedenen Analyseverfahren. In einem verständlichen und ergebnisorientierten Abschlussbericht fassen wir auf den Punkt gebracht unsere Einschätzungen und Beurteilungen zusammen. Jederzeit stehen wir Ihnen für Fragen und Beratung zur Verfügung.

Hier finden Sie einen Überblick unserer Analytik-Methoden mit weiteren Informationen:

Messung Thermische Emission

LOW-E, Thermische Emission

Absorbierte Energie verursacht eine Erwärmung, welche zu Abstrahlung führt. Der Emissionsgrad gibt an, wie viel Strahlung ein Körper im Vergleich zum idealen Strahler abgibt. Wir bieten Messungen von Reflexionsgrad und Emissivität bei 82°C / 180°F im Bereich 3-30?m beliebiger Beschichtungen als Integralwert. Dabei können die Proben flach sein (Probengröße beliebig, mindestens 5,5 x 5,5cm) und es können auch Rohre vermessen werden. Das Verfahren ist zerstörungsfrei. Durch den Vergleich verschiedener Beschichtungen können Kalkulationen bzgl. Energieeinsparung/-gewinn durchgeführt werden.

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Messung Durchschlagsfestigkeit

Durchschlagsfestigkeit

Zur Prüfung der elektrischen Isolationswirkung kann die Durchschlagspannung ähnlich DIN EN ISO 2376 gemessen werden. Es können flache und nahezu flache Oberflächen vermessen werden. In der Nähe von Kanten oder scharfkantigen Winkelübergängen ist die Messung nicht zulässig. Die Prüfung ist – wenn man bis zum Funkendurchschlag misst – zerstörend. In abgewandelter Form mit „nasser“ Kontaktierung können feinste Risse an Isolierschichten festgestellt werden.

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Rasterelektronen-Mikroskopie

REM, EDX

Ein Primärelektronenstrahl wird mit Hilfe einer Elektrodenkathode und Beschleunigung zur Anode hin, erzeugt und durch nachfolgende elektromagnetische Linsen auf die Oberfläche der zu untersuchenden Probe möglichst fein fokussiert. In der Probe werden in einem von der Beschleunigungsspannung und der Materialzusammensetzung abhängigem Wechselwirkungsvolumen Sekundärelektronen (SE), Rückstreuelektronen (BSE) und Röntgenstrahlung erzeugt. Die Energie der Röntgenstrahlung ist von der Ordnungszahl des emittierenden Atoms abhängig und damit für das betreffende Element „charakteristisch“. Alle diese Signale können mit entsprechenden Detektoren registriert werden. Entsprechenden Topographie-, Material- und/oder Elementkontraste können so abgebildet werden.

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Rastersonden-Mikroskopie

SPM

Der Rastersonden-Mikroskopie (SPM) liegt eine geregelte rasternde Bewegung einer spitz zulaufenden Messsonde in unmittelbarer Nähe zur Probenoberfläche zugrunde. Die erhaltenen dreidimensionalen Bildinformationen umfassen Strukturen und Rauigkeiten bis hinab zur atomaren Skala sowie lokale Materialeigenschaften. Während die Rastertunnel-Mikroskopie (STM) auf elektrisch leitfähige Werkstoffe beschränkt ist, erlauben die Varianten der Rasterkraft- Mikroskopie (AFM) auch die Untersuchung von Isolator-Oberflächen.

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Röntgen-Photoelektronenspektroskopie

XPS

Die Photoelektronenspektroskopie beruht auf dem Photoeffekt: Durch Anregung mit Photonen werden aus Atomen, Molekülen oder Festkörpern Elektronen herausgelöst, deren kinetische Energie bestimmt wird. Je nach Anregungsquelle unterscheidet man zwischen XPS (X-Ray Photoelectron Spectros- copy, Anregung mit Röntgenstrahlung, Eprim > 100 eV) und UPS (Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy, Anregung mit UV-Strahlung, Eprim < 100 eV).

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Flugzeit-Sekundärmassenspektroskopie

TOF-SIMS

Die Sekundär-Ionen-Massen-Spektrometrie (SIMS) gehört zu den Ionenstrahltechniken. Die Probe wird mit Primärionen, welches einatomare oder Cluster-Ionen sein können, mit einer Energie von 0,2–25keV beschossen. Hierbei entstehen neutrale, positiv und negativ geladene Teilchen.

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Fourier-Transform-Infrarotspektroskopie

FTIR

Die Fourier-Transform-Infrarotspektroskopie ist ein Verfahren zur (ortsaufgelösten) Analyse funktioneller Gruppen an organischen und anorganischen Materialien und Flüssigkeiten. Bei der IR-Spektroskopie wird die zu untersuchende Probe mit Infrarotlicht be- oder durchstrahlt und der Absorptionsverlust, der bei bestimmten Wellenzahlen auftritt, im IR-Spektrometer aufgezeichnet.

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Auger-Elektronen-Spektroskopie

AES

Die Augerelektronen-Spektroskopie (AES) misst die kinetischen Energien von Auger-Elektronen, die eine Substanz bei der Anregung mit Elektronenstrahlung emittiert. Die kinetische Energie des Auger-Elektrons ist dabei charakteristisch für einzelne chemische Elemente und lässt sich daher für die Elementanalyse verwenden. Durch den Elektronenbeschuss wird ein Elektron aus einer inneren Schale herausgeschlagen und durch ein Elektron aus einem höheren Niveau aufgefüllt. Die dabei frei werdende Energie wird entweder als Röntgenstrahlung emittiert oder strahlungslos auf ein weiteres (benachbartes) Elektron übertragen, das dann freigesetzt wird.

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